Он будет использоваться для разработки технологий производства полупроводников, пишет газета Nikkei
ТОКИО, 3 сентября. /ТАСС/. Intel и японский Национальный институт передовых промышленных наук и технологий (AIST) совместно построят в Японии исследовательский центр, который будет заниматься разработкой передовых технологий производства проводников. Об этом сообщила деловая газета Nikkei.
Отмечается, что исследовательский центр планируется построить в ближайшие три-пять лет, на нем будут задействованы технологии фотолитографии в глубоком ультрафиолете. Подчеркивается, что производители оборудования и комплектующих смогут на коммерческой основе пользоваться мощностями центра в своих нуждах — подобный центр появится в Японии впервые. Его оператором выступит японский институт, который действует под эгидой Министерства экономики, торговли и промышленности Японии. По данным газеты, общие инвестиции в центр могут достигнуть нескольких сотен миллионов долларов.
Технологии фотолитографии в глубоком ультрафиолете принадлежат голландской компании ASML, а стоимость одного набора оборудования превышает $270 млн, поэтому большинство производителей среднего уровня не могут себе их позволить. Предполагается, что создание такого центра в Японии, где производители и поставщики за плату смогут пользоваться этим современным и дорогостоящим оборудованием, поможет развитию отрасли в целом.
